Co-Si多层膜在稳态热退火中的固相界面反应

	Co-Si多层膜在稳态热退火中的固相界面反应
	顾诠 ; 陈维德 ; 许振嘉
刊名	半导体学报
	1993
卷号	14 期号:10 页码:612
英文摘要	于2010-11-23批量导入; zhangdi于2010-11-23 13:15:01导入数据到SEMI-IR的IR; Made available in DSpace on 2010-11-23T05:15:01Z (GMT). No. of bitstreams: 1 6153.pdf: 170596 bytes, checksum: e8c3088766490f32d9bdf4f5fa38c68f (MD5) Previous issue date: 1993; 国家自然科学基金; 中科院半导体所
学科主题	半导体材料
收录类别	CSCD
资助信息	国家自然科学基金
语种	中文
公开日期	2010-11-23 ; 2011-04-29
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/20093]
专题	半导体研究所_中国科学院半导体研究所（2009年前）
推荐引用方式 GB/T 7714	顾诠,陈维德,许振嘉. Co-Si多层膜在稳态热退火中的固相界面反应[J]. 半导体学报,1993,14(10):612.
APA	顾诠,陈维德,&许振嘉.(1993).Co-Si多层膜在稳态热退火中的固相界面反应.半导体学报,14(10),612.
MLA	顾诠,et al."Co-Si多层膜在稳态热退火中的固相界面反应".半导体学报 14.10(1993):612.