多模式旋转磁场对电弧离子镀弧斑放电的影响分析 | |
郎文昌 ; 高斌 ; 杜昊 ; 肖金泉 ; 谢婷婷 ; 王向红 | |
刊名 | 真空科学与技术学报 |
2015-06-15 | |
期号 | 6 |
关键词 | 机械式旋转磁控弧源 旋转不对称偏心轴向磁场 旋转偏心横向磁场 旋转偏心四极对顶磁场 旋转偏心拱形磁场 |
中文摘要 | 电弧离子镀工艺中,弧斑的放电形式、运动速率、运动方式的控制对于减少以至消除大颗粒的发射至关重要。本文采用自主研发的机械式旋转磁控弧源,围绕三种不同模式的旋转磁场下弧斑的放电行为及规律进行了研究,并从弧斑放电的物理机制出发,分析讨论了不同模式的旋转磁场对阴极斑点运动的影响机理。研究结果表明,多模式旋转磁场可以有效提高弧斑的运动速度、扩大放电面积、降低放电功率密度、减少大颗粒的发射,同时还能够大幅度提高靶材的利用率,拓展电弧离子镀的应用。 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2016-04-19 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/74375] |
专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 郎文昌,高斌,杜昊,等. 多模式旋转磁场对电弧离子镀弧斑放电的影响分析[J]. 真空科学与技术学报,2015(6). |
APA | 郎文昌,高斌,杜昊,肖金泉,谢婷婷,&王向红.(2015).多模式旋转磁场对电弧离子镀弧斑放电的影响分析.真空科学与技术学报(6). |
MLA | 郎文昌,et al."多模式旋转磁场对电弧离子镀弧斑放电的影响分析".真空科学与技术学报 .6(2015). |
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