Ti和蓝宝石的界面反应

	Ti和蓝宝石的界面反应
	顾诠 ; 王佑祥 ; 崔玉德 ; 陈新 ; 陶琨
刊名	物理学报
	1996
卷号	45 期号:5 页码:832
中文摘要	在超高真空中用电子束蒸发在抛光的(1102)取向的蓝宝石(a-Al_2O_3)衬底上蒸镀500 nm的Ti膜,在恒温炉中退火,然后用XRD(包括一般的和小角度的X射线衍射),AES和SIMS等表面分析技术详细研究了从室温至850℃,Ti与a-Al_2O_3的固相界面反应.首次系统提出了不同反应温区相应的化学反应式,讨论了采用体材料数据作热力学计算来预言Ti/a-Al_2O_3界面反应的局限性.
学科主题	半导体化学
收录类别	CSCD
资助信息	国家自然科学基金
语种	中文
公开日期	2010-11-23
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/19543]
专题	半导体研究所_中国科学院半导体研究所（2009年前）
推荐引用方式 GB/T 7714	顾诠,王佑祥,崔玉德,等. Ti和蓝宝石的界面反应[J]. 物理学报,1996,45(5):832.
APA	顾诠,王佑祥,崔玉德,陈新,&陶琨.(1996).Ti和蓝宝石的界面反应.物理学报,45(5),832.
MLA	顾诠,et al."Ti和蓝宝石的界面反应".物理学报 45.5(1996):832.