硅片接触表面的弹性形变范围 | |
韩伟华![]() | |
刊名 | 半导体光电
![]() |
2001 | |
卷号 | 22期号:6页码:440 |
学科主题 | 半导体材料 |
收录类别 | CSCD |
资助信息 | 国家973计划,国家自然科学基金 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2010-11-23 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18975] ![]() |
专题 | 半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 韩伟华. 硅片接触表面的弹性形变范围[J]. 半导体光电,2001,22(6):440. |
APA | 韩伟华.(2001).硅片接触表面的弹性形变范围.半导体光电,22(6),440. |
MLA | 韩伟华."硅片接触表面的弹性形变范围".半导体光电 22.6(2001):440. |
个性服务 |
查看访问统计 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论