热处理对非掺杂半绝缘GaAs本征缺陷和电特性的影响
杨瑞霞 ; 张富强 ; 陈诺夫
刊名稀有金属
2001
卷号25期号:6页码:427
英文摘要于2010-11-23批量导入; zhangdi于2010-11-23 13:08:37导入数据到SEMI-IR的IR; Made available in DSpace on 2010-11-23T05:08:37Z (GMT). No. of bitstreams: 1 5125.pdf: 220610 bytes, checksum: 83e8c00a9c1d7b4ecaf39fa3b83a6854 (MD5) Previous issue date: 2001; 河北省自然科学基金; 河北工业大学电信学院;中科院半导体所
学科主题半导体材料
收录类别CSCD
资助信息河北省自然科学基金
语种中文
公开日期2010-11-23 ; 2011-04-29
内容类型期刊论文
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18157]  
专题半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前)
推荐引用方式
GB/T 7714
杨瑞霞,张富强,陈诺夫. 热处理对非掺杂半绝缘GaAs本征缺陷和电特性的影响[J]. 稀有金属,2001,25(6):427.
APA 杨瑞霞,张富强,&陈诺夫.(2001).热处理对非掺杂半绝缘GaAs本征缺陷和电特性的影响.稀有金属,25(6),427.
MLA 杨瑞霞,et al."热处理对非掺杂半绝缘GaAs本征缺陷和电特性的影响".稀有金属 25.6(2001):427.
个性服务
查看访问统计
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。


©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by CSpace