在解复用模块设计中有效折射率变化的研究

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	在解复用模块设计中有效折射率变化的研究
	邱海军 ; 刘育梁 ; 李芳 ; 贺月娇 ; 田珂珂 ; 辛红丽
刊名	光电子·激光
	2003
卷号	14 期号:11 页码:1168-1170
中文摘要	研究了基于SOI（silicon-on-insulator）材料的阵列波导光栅（AWG）分波器件，给出了此器件材料色散的数值拟合公式，进而利用BPM方法研究了材料色散脊型波导结构变化和器件制做中刻蚀深度误差对波导有效折射率和波分复用模块性能的影响。结果表明，刻蚀深度误差对模块性能优劣起关键作用。
英文摘要	研究了基于SOI（silicon-on-insulator）材料的阵列波导光栅（AWG）分波器件，给出了此器件材料色散的数值拟合公式，进而利用BPM方法研究了材料色散脊型波导结构变化和器件制做中刻蚀深度误差对波导有效折射率和波分复用模块性能的影响。结果表明，刻蚀深度误差对模块性能优劣起关键作用。; 于2010-11-23批量导入; zhangdi于2010-11-23 13:07:27导入数据到SEMI-IR的IR; Made available in DSpace on 2010-11-23T05:07:27Z (GMT). No. of bitstreams: 1 4951.pdf: 223611 bytes, checksum: 7baeb7ee987820ecf14b4051e9b70b64 (MD5) Previous issue date: 2003; 国家自然科学基金重大课题资助（9 1 4 3）,国家重点基础研究发展规划资助项目（G2 366 2）; 中科院半导体所
学科主题	光电子学
收录类别	CSCD
资助信息	国家自然科学基金重大课题资助（9 1 4 3）,国家重点基础研究发展规划资助项目（G2 366 2）
语种	中文
公开日期	2010-11-23 ; 2011-04-29
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/17809]
专题	半导体研究所_中国科学院半导体研究所（2009年前）
推荐引用方式 GB/T 7714	邱海军,刘育梁,李芳,等. 在解复用模块设计中有效折射率变化的研究[J]. 光电子·激光,2003,14(11):1168-1170.
APA	邱海军,刘育梁,李芳,贺月娇,田珂珂,&辛红丽.(2003).在解复用模块设计中有效折射率变化的研究.光电子·激光,14(11),1168-1170.
MLA	邱海军,et al."在解复用模块设计中有效折射率变化的研究".光电子·激光 14.11(2003):1168-1170.