p型纳米硅与a-Si∶H不锈钢底衬nip太阳电池
胡志华 ; 廖显伯 ; 刁宏伟 ; 夏朝凤 ; 曾湘波 ; 郝会颖 ; 孔光临
刊名物理学报
2005
卷号54期号:6页码:2945-2949
中文摘要报道了选用厚度为0.05mm的不锈钢箔作衬底,B掺杂P型氢化纳米硅作窗口层,制备成功开路电压和填充因子分别达到0.90V和0.70的nip非晶硅基薄膜单结太阳电池.UV-VIS透射谱和微区Raman谱证实所用p层具有典型氢化纳米硅的宽能隙和含有硅结晶颗粒的微结构特征.明确指出导致这种氢化纳米硅能隙展宽的物理机制是量子尺寸效应.
学科主题半导体材料
收录类别CSCD
资助信息国家重大基础研究计划(973)项目
语种中文
公开日期2010-11-23
内容类型期刊论文
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/16945]  
专题半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前)
推荐引用方式
GB/T 7714
胡志华,廖显伯,刁宏伟,等. p型纳米硅与a-Si∶H不锈钢底衬nip太阳电池[J]. 物理学报,2005,54(6):2945-2949.
APA 胡志华.,廖显伯.,刁宏伟.,夏朝凤.,曾湘波.,...&孔光临.(2005).p型纳米硅与a-Si∶H不锈钢底衬nip太阳电池.物理学报,54(6),2945-2949.
MLA 胡志华,et al."p型纳米硅与a-Si∶H不锈钢底衬nip太阳电池".物理学报 54.6(2005):2945-2949.
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