LIGA技术的掩模制造

	LIGA技术的掩模制造
	伊福廷; 吴坚武; 晋明; 冼鼎昌; 刘金声; 王乃强
刊名	微细加工技术
	1995
期号	2 页码:33-37
关键词	同步辐射光刻 X光曝光掩模微结构微细加工
其他题名	MASK FABRICATON OF LIGA TECHNIQUE
通讯作者	伊福廷
中文摘要	ＬＩＧＡ技术是近几年才发展起来的一门新的技术，包括光刻、电铸和塑铸。由于要进行深度Ｘ光曝光，所用的同步辐射Ｘ光较硬，这一曝光条件相应就需要Ｘ光掩模吸收体有较大厚度和较高的加工精度，这样才能够阻挡住Ｘ光，同时保证较高的光刻精度。这种掩模的加工一般需要分二步完成，首先要加工出一块不太厚吸收体图形的Ｘ光掩模，然后利用同步辐射Ｘ光将这一掩模翻制成较大厚度的ＬＩＧＡ技术用掩模。本文是利用紫外光曝光与氩离子刻蚀相结合，制造出吸收体图形厚度２微米的Ｘ光掩模，然后用同步光将这一掩模翻制成ＬＩＧＡ技术用的掩模。
公开日期	2016-02-26
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/215219]
专题	高能物理研究所_院士高能物理研究所_多学科研究中心
推荐引用方式 GB/T 7714	伊福廷,吴坚武,晋明,等. LIGA技术的掩模制造[J]. 微细加工技术,1995(2):33-37.
APA	伊福廷,吴坚武,晋明,冼鼎昌,刘金声,&王乃强.(1995).LIGA技术的掩模制造.微细加工技术(2),33-37.
MLA	伊福廷,et al."LIGA技术的掩模制造".微细加工技术 .2(1995):33-37.