神经记录用硅基多通道微电极探针的设计与制造
裴为华
刊名传感技术学报
2006
卷号19期号:5A页码:1404-1406
中文摘要为了从中枢神经系统记录电信号,半导体加工技术已经被用于微电极探针的制造.介绍了一种硅基探针的设计和制造工艺流程.我们已经制造出15 μm厚,3 mn长,100μm宽的记录用探针,每根探针含有7个记录点,间隔120 μm.在制造过程中使用微机械系统(MEMS)工艺中常用的硅表面微加工工艺:等离子增强化学气相淀积(PECVD),感应耦合等离子刻蚀(ICP)以及硅的各向异性刻蚀等.测试结果给出了探针的强度和阻抗特性.
学科主题光电子学
收录类别CSCD
资助信息国家高科技研究发展计划资助,国家自然科学基金资助
语种中文
公开日期2010-11-23
内容类型期刊论文
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/16495]  
专题半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前)
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GB/T 7714
裴为华. 神经记录用硅基多通道微电极探针的设计与制造[J]. 传感技术学报,2006,19(5A):1404-1406.
APA 裴为华.(2006).神经记录用硅基多通道微电极探针的设计与制造.传感技术学报,19(5A),1404-1406.
MLA 裴为华."神经记录用硅基多通道微电极探针的设计与制造".传感技术学报 19.5A(2006):1404-1406.
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