HIT太阳电池中ITO薄膜的结构和光电性能 | |
任丙彦 ; 刘晓平 ; 许颖 ; 王敏花 ; 廖显伯 | |
刊名 | 太阳能学报
![]() |
2007 | |
卷号 | 28期号:5页码:504-507 |
中文摘要 | 采用射频磁控溅射技术在不同射频功率下沉积了ITO薄膜,并将其应用于HIT太阳电池.分析了薄膜的结构、光电特性.结果表明,在120W时制备的薄膜很好地兼顾了电阻率和光透过率,其电阻率为3.48×10~(-4)Ω·cm、在350~800 nm波段的平均光透过率为87.1%,将其应用于HIT太阳电池上,电池的转换效率可达13.38%. |
学科主题 | 半导体材料 |
收录类别 | CSCD |
资助信息 | 河北省自然科学基金项目 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2010-11-23 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/16269] ![]() |
专题 | 半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 任丙彦,刘晓平,许颖,等. HIT太阳电池中ITO薄膜的结构和光电性能[J]. 太阳能学报,2007,28(5):504-507. |
APA | 任丙彦,刘晓平,许颖,王敏花,&廖显伯.(2007).HIT太阳电池中ITO薄膜的结构和光电性能.太阳能学报,28(5),504-507. |
MLA | 任丙彦,et al."HIT太阳电池中ITO薄膜的结构和光电性能".太阳能学报 28.5(2007):504-507. |
个性服务 |
查看访问统计 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论