纳米硅镶嵌氮化硅薄膜的制备及非线性光学性质研究 | |
吕蓬 ; 郭亨群 ; 申继伟 ; 王启明 | |
刊名 | 功能材料
![]() |
2008 | |
卷号 | 39期号:1页码:44-47 |
中文摘要 | 采用射频磁控反应溅射法结合热退火处理技术制备纳米硅镶嵌氮化硅(nc-Si/SiNx)复合薄膜。通过X射线能谱(EDS)、红外光谱(IR)、X射线衍射(XRD)及紫外-可见吸收光谱(UV-vis)的测定,对薄膜进行了组分、键合状态、结构及光学带隙的表征。采用皮秒激光运用单光束Z扫描技术开展了对该复合薄膜的非线性光学性质的研究,测得其三阶非线性折射率系数和非线性光吸收系数分别为10~(-8)esu和10~(-8)m/W量级,并将薄膜这种三阶光学非线性增强的原因归因于量子限域效应。 |
学科主题 | 光电子学 |
收录类别 | CSCD |
资助信息 | 国家自然科学基金资助项目(6 678 53,6 336 1 ) |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2010-11-23 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/16135] ![]() |
专题 | 半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 吕蓬,郭亨群,申继伟,等. 纳米硅镶嵌氮化硅薄膜的制备及非线性光学性质研究[J]. 功能材料,2008,39(1):44-47. |
APA | 吕蓬,郭亨群,申继伟,&王启明.(2008).纳米硅镶嵌氮化硅薄膜的制备及非线性光学性质研究.功能材料,39(1),44-47. |
MLA | 吕蓬,et al."纳米硅镶嵌氮化硅薄膜的制备及非线性光学性质研究".功能材料 39.1(2008):44-47. |
个性服务 |
查看访问统计 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论