聚硅氧烷基纳米多孔薄膜双分形结构的同步辐射小角X射线散射分析
高芳亮; 陈宏基; 吴忠华; 李志宏
刊名理化检验(物理分册)
2011
期号3页码:133-136+171
关键词纳米多孔薄膜 同步辐射小角X射线散射 分形结构
其他题名Two Fractal Structural Analysis of Polysiloxane Nanoporous Thin Films by Synchrotron Radiation Small Angle X-ray Scattering
中文摘要以聚硅氧烷基材料为预聚体,采用两种核壳型致孔剂,以旋涂工艺分别制备两组聚硅氧烷基纳米多孔薄膜,采用北京同步辐射装置(BSRF)光源进行了小角X射线散射测试,在掠入射模式(入射角iα=0.2°)下得到了两组不同孔隙率纳米多孔薄膜的二维散射数据,在此基础上分析了薄膜的分形特征,发现所制备的薄膜除试样A1外,均存在双分形结构,辅以场发射扫描电子显微镜(FESEM)观测,证实微孔为产生散射的主体。
公开日期2016-02-25
内容类型期刊论文
源URL[http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/222894]  
专题高能物理研究所_多学科研究中心
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GB/T 7714
高芳亮,陈宏基,吴忠华,等. 聚硅氧烷基纳米多孔薄膜双分形结构的同步辐射小角X射线散射分析[J]. 理化检验(物理分册),2011(3):133-136+171.
APA 高芳亮,陈宏基,吴忠华,&李志宏.(2011).聚硅氧烷基纳米多孔薄膜双分形结构的同步辐射小角X射线散射分析.理化检验(物理分册)(3),133-136+171.
MLA 高芳亮,et al."聚硅氧烷基纳米多孔薄膜双分形结构的同步辐射小角X射线散射分析".理化检验(物理分册) .3(2011):133-136+171.
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