周期性多层膜合金化制取的TiNi形状记忆薄膜的室温微结构特征

	周期性多层膜合金化制取的TiNi形状记忆薄膜的室温微结构特征
	魏向军; 徐清; 王天民; 贾全杰; 王焕华; 冯松林
刊名	物理学报
	2006
期号	3 页码:1508-1511
关键词	相深度分布形状记忆 TiNi 多层膜
其他题名	Microstructure of TiNi shape memory alloy films made of sputter-deposited NiPTi multilayers
通讯作者	魏向军
中文摘要	用掠入射X射线衍射及X射线反射对磁控溅射制取的等原子比Ni/Ti周期性多层膜晶化热处理后的TiNi形状记忆薄膜室温微结构进行了研究.TiNi形状记忆薄膜在深度方向的相分布和元素分布是不均匀的,都是一种多层结构.室温下其微结构特征为最外层是Ti氧化膜,再下层是Ti3Ni4,B19’马氏体相和少量的B2奥氏体相的三相混合物,靠近基体为主要相成分马氏体,最后是Ni和Si界面反应层.X射线反射率的拟和结果显示薄膜微结构的分析是合理的.薄膜中相深度分布的不均匀性主要是动力学因素决定的.
公开日期	2016-02-25
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/222454]
专题	高能物理研究所_多学科研究中心
推荐引用方式 GB/T 7714	魏向军,徐清,王天民,等. 周期性多层膜合金化制取的TiNi形状记忆薄膜的室温微结构特征[J]. 物理学报,2006(3):1508-1511.
APA	魏向军,徐清,王天民,贾全杰,王焕华,&冯松林.(2006).周期性多层膜合金化制取的TiNi形状记忆薄膜的室温微结构特征.物理学报(3),1508-1511.
MLA	魏向军,et al."周期性多层膜合金化制取的TiNi形状记忆薄膜的室温微结构特征".物理学报 .3(2006):1508-1511.