质子LIGA工艺的探讨

	质子LIGA工艺的探讨
	彭良强; 徐韬光; 韩勇; 伊福廷; 张菊芳
刊名	微纳电子技术
	2002
期号	5 页码:34-36
关键词	微细加工质子束准LIGA
其他题名	RESEARCH ON PROTON LIGA TECHNOLOGY
通讯作者	彭良强
中文摘要	提出采用掩模法的质子LIGA方法,即利用厚胶光刻产生掩模,然后进行质子束深度刻蚀、显影获得微结构。根据TRIM96程序进行模拟计算,该方法可以获得深度达数毫米、深宽比为30以上的微结构。利用通常的LIGA工艺制备了质子束深度刻蚀的掩模。在高能所35MeV质子加速器上进行曝光试验,结果表明,采用PMMA光刻胶具有足够的灵敏度。
公开日期	2016-02-25
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221957]
专题	高能物理研究所_多学科研究中心高能物理研究所_加速器中心
推荐引用方式 GB/T 7714	彭良强,徐韬光,韩勇,等. 质子LIGA工艺的探讨[J]. 微纳电子技术,2002(5):34-36.
APA	彭良强,徐韬光,韩勇,伊福廷,&张菊芳.(2002).质子LIGA工艺的探讨.微纳电子技术(5),34-36.
MLA	彭良强,et al."质子LIGA工艺的探讨".微纳电子技术 .5(2002):34-36.