Ge薄层异质结构的同步辐射X射线反射法研究

	Ge薄层异质结构的同步辐射X射线反射法研究
	郑文莉; 贾全杰; 姜晓明; 蒋最敏
刊名	高能物理与核物理
	2001
期号	12 页码:1231-1237
关键词	异质结构同步辐射 X射线反射表面偏析
其他题名	Study of Ge Thin Heterostructures by Synchrotron Radiation X-Ray Reflection
通讯作者	郑文莉
中文摘要	用X射线反射方法研究了分子束外延技术生长的Si中Ge薄层异质结构的Ge原子分布特性 .根据X射线反射理论及Parratt数值计算方法对实验反射曲线的模拟 ,得到不同厚度的Ge薄层异质结构样品中Ge原子的深度分布为非对称指数形式 :在靠近样品表面一侧的衰减长度为 8埃 ,而在靠近样品衬底一侧的衰减长度为 3埃 ,且分布形式与Ge原子层的厚度无关。讨论了不同结构参数(Ge原子薄层的深度、Ge原子分布范围、样品表面粗糙度、样品表面氧化层厚度等 )对样品低角反射曲线的影响
公开日期	2016-02-25
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221820]
专题	高能物理研究所_多学科研究中心中国科学院高能物理研究所_人力资源处
推荐引用方式 GB/T 7714	郑文莉,贾全杰,姜晓明,等. Ge薄层异质结构的同步辐射X射线反射法研究[J]. 高能物理与核物理,2001(12):1231-1237.
APA	郑文莉,贾全杰,姜晓明,&蒋最敏.(2001).Ge薄层异质结构的同步辐射X射线反射法研究.高能物理与核物理(12),1231-1237.
MLA	郑文莉,et al."Ge薄层异质结构的同步辐射X射线反射法研究".高能物理与核物理 .12(2001):1231-1237.