金属有机化学气相沉积法制备钛酸铅铁电薄膜

	金属有机化学气相沉积法制备钛酸铅铁电薄膜
	孙力; 陈延峰; 于涛; 闵乃本; 姜晓明; 修立松
刊名	物理学报
	1996
期号	10 页码:8
关键词	铁电薄膜摇摆曲线择优取向重掺杂硅单晶多晶薄膜薄膜质量钛酸铅外延生长铁电性能化学计量比
其他题名	PREPARATION AND CHARACTERIZATION OF PbTiO3 THIN FILMS BY METALORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
中文摘要	利用低压ＭＯＣＶＤ工艺分别在（００１）取向的ＬａＡｌＯ３，ＳｒＴｉＯ３和重掺杂硅单晶衬底上制备ＰｂＴｉＯ３铁电薄膜，并通过Ｘ射线衍射谱对薄膜的微结构进行分析．Ｘ射线θ－２θ扫描显示硅衬底上得到了ＰｂＴｉＯ３多晶薄膜，另两种衬底上得到了择优取向的ＰｂＴｉＯ３薄膜．ＬａＡｌＯ３衬底上的ＰｂＴｉＯ３薄膜有ａ和ｃ两个取向，也就是薄膜中存在着９０°畴结构，而生长在ＳｒＴｉＯ３衬底上的ＰｂＴｉＯ３薄膜中只存在ｃ方向的择优取向．由于薄膜的尺度效应，发现ｃ轴晶格常数与块材相比均缩短．Ｘ射线的φ扫描验证了后两类薄膜的外延特性，利用同步辐射的高强度和高能量分辨率用摇摆曲线方法研究了这两种外延薄膜的品质，进一步证明...
公开日期	2016-02-25
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221507]
专题	高能物理研究所_多学科研究中心
推荐引用方式 GB/T 7714	孙力,陈延峰,于涛,等. 金属有机化学气相沉积法制备钛酸铅铁电薄膜[J]. 物理学报,1996(10):8.
APA	孙力,陈延峰,于涛,闵乃本,姜晓明,&修立松.(1996).金属有机化学气相沉积法制备钛酸铅铁电薄膜.物理学报(10),8.
MLA	孙力,et al."金属有机化学气相沉积法制备钛酸铅铁电薄膜".物理学报 .10(1996):8.