应用XPS研究碘化铯光阴极的热稳定性

	应用XPS研究碘化铯光阴极的热稳定性
	谈凯声; 潘智勇; 刘风琴
刊名	光电子技术
	1993
期号	3 页码:55-59
关键词	X射线光电子能谱仪碘化铯光阴极化学状态热稳定性
其他题名	THERMAL STABILITY ANALYSIS OF CSI PHOTOCATHODE WITH XPS
中文摘要	本文应用XPS(X射线光电子能谱仪)研究了真空烘烤对碘化铯光阴极化学状态的影响。实验结果表明在高真空环境中,碘化铯光阴极在低于180℃的烘烤条件下即以缓慢的速率升华,但是,它的化学状态是稳定的。而在高于180℃的烘烤条件下,它的化学状态将发生变化。
公开日期	2016-02-25
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221280]
专题	高能物理研究所_多学科研究中心
推荐引用方式 GB/T 7714	谈凯声,潘智勇,刘风琴. 应用XPS研究碘化铯光阴极的热稳定性[J]. 光电子技术,1993(3):55-59.
APA	谈凯声,潘智勇,&刘风琴.(1993).应用XPS研究碘化铯光阴极的热稳定性.光电子技术(3),55-59.
MLA	谈凯声,et al."应用XPS研究碘化铯光阴极的热稳定性".光电子技术 .3(1993):55-59.