| 题名 | 硕士论文-软X射线光刻中抗蚀剂图形的研究 |
| 作者 | 何文牧 |
| 学位类别 | 硕士 |
| 答辩日期 | 1988 |
| 授予单位 | 中国科学院研究生院 |
| 授予地点 | 北京 |
| 导师 | 马俊如 ; 陈梦真 |
| 关键词 | 软X射线 抗蚀剂 |
| 学位专业 | 同步辐射光刻 |
| 中文摘要 | 本文是研究软X射线光刻中抗蚀剂的一些问题。首先从理论上分析抗蚀剂的性能和作用原理，探讨了影响X射线光刻结果的各项因素；在实验中讨论了几种抗蚀剂的性能，重点研究在光刻中存在的底膜，针对底膜出现的情况，首先分析了光源中硬射线成份，同时对影响底膜的各种寄生光电子效应进行分析，并且在工艺上探讨消除底膜的方法。在实验中我们体会最深的是：1.光源中硬射线成份的检测是一项困难工作，且由于采用设备复杂，不适于工艺中应用。为此，我们研究开发了利用多层计量膜重叠曝光的方法，得到了较佳的结果，实践表明：这种方法简单易行，是工艺制作过程中检测光源光谱的有效手段。2.针对光刻中常出现的底膜，实验分析了底膜产生原因是寄生光电子效应，即掩膜衬底和吸收体产生的光电子和衬底背散射光电子。通过改进工艺，可消除光电子影响，最后得到较佳光刻结果。 |
| 语种 | 中文 |
| 学科主题 | 同步辐射光刻 |
| 公开日期 | 2016-02-25 |
| 内容类型 | 学位论文 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/209839]  |
| 专题 | 多学科研究中心_学位论文和出站报告 |
| 作者单位 | 中国科学院高能物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 何文牧. 硕士论文-软X射线光刻中抗蚀剂图形的研究[D]. 北京. 中国科学院研究生院. 1988. |
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